電解化學(xué)鍍層合金電鍍樣品分析顯微鏡
熱處理對(duì)合金電鍍藝影響的報(bào)導(dǎo)并不少見(jiàn),它們比較全面的解釋了
熱處理的四個(gè)主要影響。在較低溫度下釋出所吸附的氣體并消除殘余
應(yīng)力。在較高溫度下,使鍍層與基體之間產(chǎn)生相互擴(kuò)散,像涂層附著強(qiáng)
度一樣,可改善長(zhǎng)期耐蝕性能。如果存在著亞穩(wěn)固溶體,將會(huì)析出平衡
相,進(jìn)而使鍍層硬化,這種作用對(duì)合金電鍍層是很有用的,雖然在這方面
已取得很大的效益,但是在研究的深度方面仍然是膚淺的。在較高溫度
下與顯著軟化的同時(shí),產(chǎn)生再結(jié)晶和晶粒長(zhǎng)大,這對(duì)于實(shí)際應(yīng)用是不利
的。
非電解化學(xué)鍍層
與電鍍比較,化學(xué)鍍的原理是十分簡(jiǎn)單的,在金屬基體涂層過(guò)程中通
過(guò)釋放電子而在金屬/溶液界面上產(chǎn)生金屬離子的還原,這種還原是由
于在溶液中溶解的化學(xué)還原劑所引起的,因此,稱(chēng)之為“化學(xué)還原沉積
”。然而,如果還原劑過(guò)強(qiáng),就可能在全部溶液中發(fā)生無(wú)選擇的還原,如
若均勻生核,則會(huì)形成金屬形式的膠態(tài)沉積層。通常,催化階段為的
是在合適的表面上進(jìn)行沉積還原反應(yīng)并實(shí)現(xiàn)非均勻生核以確保良好
的局部鍍層。沉積物本身或在表面上的金屬滲透,能起到催化劑的作用
,因此,類(lèi)似于“自動(dòng)催化鍍層”般認(rèn)為是沃茲( Wurtz)等發(fā)明了這種
工藝,他們?cè)谏蟼�(gè)世紀(jì)利用醛類(lèi)和醇類(lèi)的還原特性,通過(guò)這些溶液對(duì)銀
離子的還原能力,使銀在玻璃器皿的表面上沉積,從而獲得了銀鏡面鍍
層。已有充分的事實(shí)說(shuō)明了非金屬涂層的性能及其應(yīng)用,它們?cè)诰酆衔?BR>的表面上得到了廣泛的采用。此外,這種鍍層與工藝還有令人感興趣的
其它重要特點(diǎn),其中包括極好的鍍涂本領(lǐng)以及能形成較硬的鍍層,當(dāng)然,
沉積速度較慢是影響它推廣使用的一個(gè)嚴(yán)重缺點(diǎn)。合金化的形成是采
用某種還原劑的結(jié)果。
