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化學(xué)拋光是靠化學(xué)溶解作用得到光滑的拋光表面。這種方法操作簡單，成本低廉，不需要特別的儀器設(shè)備，對原來式樣表面的光潔度要求不高，這些優(yōu)點(diǎn)給金相工作者帶來很大的方便。
化學(xué)拋光和電解拋光原理類似，是化學(xué)藥劑對式樣表面不均勻溶解的結(jié)果。溶解過程中表層也產(chǎn)生一層氧化膜。但化學(xué)拋光對試樣原來凸起的部分的溶解速度比電解拋光慢，因此經(jīng)化學(xué)拋光后的 磨面較光滑，但不平整，有波浪起伏，這種起伏一般在 物鏡的垂直鑒別能力之內(nèi)，適于用顯微鏡作低倍和中倍觀察。
化學(xué)拋光是將試樣侵在化學(xué)拋光液中，進(jìn)行適當(dāng)?shù)臄噭樱蛴妹藁ń?jīng)常擦拭，經(jīng)過一定時(shí)間后，就可以得到表面光亮，化學(xué)拋光兼有腐伺的 作用，能顯示金相組織，拋光后直接在顯微鏡下觀察。
本文關(guān)鍵詞:顯微鏡,金相化學(xué),拋光
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原文地址:http://www.bqct.com.cn/news/2009311122421.htm
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